An extended depth of field optical probe (100) includes a lens (102) and a spacer (101) positioned adjacent the lens, the spacer and lens are configured to produce a plurality of waists (w1-w3) at a plurality of working distances by varying at least one of an index of refraction of adjacent optical components of the spacer and a physical geometry of a surface of the probe, and the working distance of a first waist is greater than 0.La présente invention porte sur une profondeur prolongée de sonde optique de champ (100), qui comprend une lentille (102) et un espaceur (101) positionné adjacent à la lentille, lespaceur et la lentille étant configurés pour produire une pluralité de ceintures (w1-w3) au niveau dune pluralité de distances de travail par variation dau moins lun dun indice de réfraction de composants optiques adjacents de lespaceur et dune géométrie physique dune surface de la sonde, et la distance de travail dune première ceinture est supérieure à 0.
