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超音波照射装置
专利权人:
株式会社日立製作所
发明人:
川畑 健一
申请号:
JP2010505294
公开号:
JP5161955B2
申请日:
2009.02.20
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
It is the ultrasonic lighting device which is used the case of phase change type ultrasonic contrast medium use, for phase change and it designates that with one for remedy interference is not caused during ultrasonic irradiating as topic. The ultra wave whose high frequency and largest vacuum are large, compared to low frequency and the ultra wave whose largest positive pressure is larger is used to remedy in phase change.相変化型超音波造影剤使用の際に用いられる超音波照射装置であり、相変化用と治療用とで超音波照射間に干渉を生じないことを課題とする。相変化には高周波および最大負圧の大きい超音波を、治療にはより低周波およびより最大正圧の大きい超音波を用いる。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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