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METHOD FOR PREPARING HEDERA RHOMBEA EXTRACT AND COSMETIC COMPOSITION CONTAINING SAME
专利权人:
发明人:
CHOI, SUNG KYUKR,최성규,KIM, YUN JEONGKR,김윤정,LEE, DAE WOOKR,이대우,KIM, DONG WOOKKR,김동욱
申请号:
KR1020150095501
公开号:
KR1015502710000B1
申请日:
2015.07.03
申请国别(地区):
KR
年份:
2015
代理人:
摘要:
The present invention relates to a method for manufacturing a Hedera rhombea extract by an catalytic reaction and a cosmetic composition for relieving atopic dermatitis and relieving the skin containing the extract as the extract. Specifically, the present invention relates to a technique of manufacturing an extract having excellent anti oxidant activity controlling inflammation-mediated expression factor control by converting an alpha-hederin glycoside by treating a glycosidic bond decomposing catalyst, and using the same in manufacturing of cosmetic composition for releasing atopic dermatitis and relieving the skin. The cosmetic composition according to the present invention is derived from a natural substance, and does not have toxicity and side effects, has excellent inflammation-mediated expression factor control and anti-oxidant effect, to protect skin from an outer factor affecting skin inflammation thereby being effective in releasing the skin inflammation and treating skin troubles.COPYRIGHT KIPO 2015본 발명은 효소반응에 의한 송악추출물의 제조방법 및 상기 추출물을 유효성분으로 함유하는 아토피 피부염 완화 및 피부 진정용 화장료조성물에 관한 것이다. 구체적으로는 송악추출물에 당결합 분해 효소를 처리함으로써 알파-헤데린 배당체를 헤데라게닌으로 전환시켜 염증 매개 발현 인자 억제 및 항산화 활성이 우수한 추출물을 제조하며, 이를 아토피 피부염 완화 및 피부 진정용 화장료 조성물의 제조에 이용하는 기술에 관한 것이다.본 발병에 따른 화장료 조성물은 천연물 유래의 물질로, 독성 및 부작용이 없으며, 탁월한 염증 매개 발현 인자 억제 및 항산화 효과를 나타내므로, 피부 염증에 영향을 주는 외부인자로부터 피부를 보호함으로써, 피부염 완화 및 피부 트러블을 개선하는데 효과적으로 이용될 수 있다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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