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광촉매 장치
专利权人:
RENATECH CO.; LTD.
发明人:
INAGAKI SEIICHI,이나가키 세이이치,UEDA MITSUHIRO,우에다 미츠히로
申请号:
KR1020137014639
公开号:
KR1020130141577A
申请日:
2011.12.10
申请国别(地区):
KR
年份:
2013
代理人:
摘要:
Provided is a photocatalyst device that can be implemented using a simple configuration, in which a photocatalyst filter can be cleaned and the performance of the filter restored during maintenance without removal of the filter from the position at which the filter is mounted (while the filter remains mounted). The photocatalyst device comprises a substantially flat plate-shaped photocatalyst filter module (20) including a photocatalyst filter (30) mounted in a substantially vertical direction a cleaning-water supply tube (31) having a slit, the cleaning-water supply tube being secured to the module (20) above the photocatalyst filter (30) and a cleaning-water storage unit (32) having a discharge outlet (21a) and a lid member, the cleaning-water storage unit being provided to the module (20) below the photocatalyst filter (30). When cleaning water (W) is supplied from the exterior to the cleaning-water supply tube (31), the cleaning water (W) flows from the slit along the photocatalyst filter (30) and is temporarily stored in the cleaning-water storage unit (32). When the cleaning water (W) reaches a predetermined amount, the lid member opens, and the cleaning water is discharged from the discharge outlet (21a).메인터넌스시에, 광촉매 필터를 그 장착 지점으로부터 떼어내지 않고 (장착한 채로) 세정하여 그 능력을 회복시킬 수 있음과 함께, 간단한 구성으로 실현할 수 있는 광촉매 장치를 제공한다. 대략 수직 방향에 장착된 광촉매 필터 (30) 를 포함하는, 대략 평판상의 광촉매 필터·모듈 (20) 과, 광촉매 필터 (30) 의 상방에서 모듈 (20) 에 고정된, 슬릿을 갖는 세정수 공급관 (31) 과, 광촉매 필터 (30) 의 하방에서 모듈 (20) 에 형성된, 배수구 (21a) 및 덮개 부재를 갖는 세정수 저류부 (32) 를 구비한다. 세정수 공급관 (31) 에 외부로부터 세정수 (W) 를 공급하면, 세정수 (W) 는 상기 슬릿으로부터 광촉매 필터 (30) 를 따라 유동하여 세정수 저류부 (32) 에 일시적으로 저류된다. 세정수 (W) 가 소정량에 도달하면, 상기 덮개 부재가 열려 배수구 (21a) 로부터 외부에 배출된다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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