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用于散射介质中改进的扩散发光成像或者断层照相的系统、方法和发光标记物
专利权人:
卢米托股份有限公司
发明人:
斯蒂芬·安德森·恩格斯,C.徐,H.刘,约翰·阿克塞尔森,尼克拉斯·斯文森,庞图斯·斯文马克
申请号:
CN201080030265.6
公开号:
CN102497803A
申请日:
2010.05.05
申请国别(地区):
CN
年份:
2012
代理人:
摘要:
公开一种用于散射介质中的感兴趣区域的发光分子成像或者断层照相的方法和系统。该系统包括布置于散射介质中的非线性发光标记物材料。因此改进成像或者断层照相的对比度和分辨率。非线性标记物例如被配置成上变频照射波长的传入光。标记物的非线性功率依赖性通过使用同时以两个或者更多激励束拍摄的图像来实现进一步的成像改进。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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