用于散射介质中改进的扩散发光成像或者断层照相的系统和方法
- 专利权人:
- 卢米托股份有限公司
- 发明人:
- 斯蒂芬·安德森·恩格斯,C.徐,H.刘,庞图斯·斯文马克
- 申请号：
- CN201380035375.5
- 公开号：
- CN104603600A
- 申请日:
- 2013.07.01
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2015
- 代理人:
- 摘要：
- 公开一种用于散射介质中的感兴趣区域的发光分子成像或者断层照相的方法和系统。该系统包括布置于散射介质中的非线性发光标记物材料，一个或者更多光源由至少一个光源位置定位用于通过由所述一个或者多个光源向激励体积中发射的激励光激励所述发光标记物，以及检测器在发光光检测位置检测由于所述激励光而来自所述发光标记物的发光，其中所述激励光包括脉冲的激励光。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
