您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

気体処理装置
专利权人:
UTSUNOMIYA UNIV
发明人:
NAGASAWA TAKESHI,長澤 武
申请号:
JP2011071435
公开号:
JP2012205615A
申请日:
2011.03.29
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas treatment apparatus which consumes and generates less power without generating ozone with a simple structure.SOLUTION: The gas treatment apparatus 1 includes a hollow housing 2, an inlet 3 for receiving a gas into the housing 2, a polymer porous body 11 disposed in a position to block a course of the gas received in the housing 2 through the inlet 3, a UV-ray generating member 20 which is disposed on the side of the inlet of the polymer porous body 11 and emits deep ultraviolet light to the polymer porous body 11, and a discharging port 4 for discharging the gas that has passed through the polymer porous body 11. The polymer porous body 11 is composed of a high molecular compound that generates OH radicals under the exposure of the deep ultraviolet light. The ultraviolet light generating member is preferably a light-emitting diode that generates the deep ultraviolet light of a wavelength of 200 to 350 nm.COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】オゾンを発生させず、簡易な構造で、消費電力や発熱量が少ない気体処理装置を提供する。【解決手段】中空構造のハウジング2と、ハウジング2内に気体を取り込む導入口3と、導入口3からハウジング2内に取り込まれる気体の進路を遮る位置に配置された高分子多孔体11と、高分子多孔体11の導入口側に配置されて該高分子多孔体11に向けて深紫外線を照射する紫外線発生部材20と、高分子多孔体11を通過した気体を排出する排出口4とを備える気体処理装置1であって、高分子多孔体11は深紫外線の照射下でOHラジカルを生成する高分子化合物からなるように構成して、上記課題を解決する。このとき、紫外線発生部材は200nm~350nmの波長の深紫外線を発生する発光ダイオードであることが好ましい。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充