足底按摩浴盆
- 专利权人:
- 王利军
- 发明人:
- 王利军
- 申请号：
- CN201220091750.0
- 公开号：
- CN202452668U
- 申请日:
- 2012.03.01
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 摘要：
- 一种足底按摩浴盆，涉及利用水流对足底进行按摩的装置。本足底按摩浴盆主要由足浴盆、电器仓、电加热器、水泵、电机、水管及足底按摩模板构成；足浴盆和电器仓并排固定在一起；电加热器、水泵及电机装在电器仓内，电机与水泵相连；足底按摩模板为中间有空腔的板，其上部开有若干孔，与空腔相通，足底按摩模板的下部设有进水口；足底按摩模板通过底座装在足浴盆中；回水管由足浴盆处穿过盆壁，进入电器仓，并穿过电加热器与水泵的进水口相连；出水管接在水泵的出水口上，并穿过盆壁与足底按摩模板相连。本足底按摩浴盆可利用水流对足底的穴位进行有效的按摩。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
