粒子射线治疗系统以及粒子射线治疗系统的设备更新方法
- 专利权人:
- 株式会社日立制作所
- 发明人:
- 青野英浩
- 申请号：
- CN201811520082.7
- 公开号：
- CN110215620A
- 申请日:
- 2018.12.12
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供能够高效地更新设备的粒子射线治疗系统以及粒子射线治疗系统的设备更新方法。粒子射线治疗系统(1)具备:产生带电粒子束(Bm)的带电粒子束产生装置(2);使带电粒子束向预定的照射对象照射的第一照射装置(4(1));从带电粒子束产生装置(2)向第一照射装置(4(1))输送带电粒子束的第一射束输送装置(3(1));以及设于第一射束输送装置(3(1))的第一真空阀(33(1))。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
