The invention relates to the field of biometrics. The technical result is a reduction in the cost and an increase in the reliability of a ridge pattern recording system which provides high image quality and has small dimensions, a high operating speed and reduced energy consumption. The system comprises a light source, a component which determines the position of a scanning surface, an optical system, a multi-element image sensor, an electronic memory and a processing device, wherein the output electronic image from the system is linked by means of merging in the processing device to at least two intermediate images which are linked to the optical image from the scanning surface, in which a beam of radiation with wavelengths less than L is at least five times superior to a beam of radiation with wavelengths greater than L, and the value of L satisfies the condition 0.37â‹ L1.5/(Aâ‹ Nâ‹ T1.2)<1, where L is the critical wavelength in micrometers, T is the interval of the light-sensitive elements in micrometers, A is the numerical aperture of the optical system on the image sensor side, and N is the number of light-sensitive elements of the image sensor to one element of the output image.La invención se refiere al campo de la biométrica. El resultado técnico es una reducción en el costo y un incremento en la confiabilidad de un sistema de registro del patrón de relieve que provee alta calidad de imagen y que tiene dimensiones pequeñas, alta velocidad de operación y consumo reducido de energía. El sistema comprende un sistema óptico, un sensor de imagen de elementos múltiples, una memoria electrónica y un dispositivo procesador donde la imagen electrónica de salida del sistema está enlazada por medios de fusión en el dispositivo procesador, a por lo menos dos imágenes intermedias, que están enlazadas con la imagen óptica de la superficie de exploración, en la que un haz de radiación con longitudes de onda menores que L, es por lo menos cinco veces superior a un haz de r
