PRYTKOV ANTON, SERGEEVICH,Прытков, Антон Сергеевич
申请号：
EA201400069
公开号：
EA023371B1
申请日:
2012.08.08
申请国别(地区):
EA
年份:
2016
代理人:
摘要：
The invention relates to the field of biometrics. The technical result is a reduction in the cost, an increase in the reliability, high image quality, small dimensions, a high operating speed and reduced energy consumption of a ridge pattern recording system. The system comprises a light source, a component which determines the position of a scanning surface, an optical system, a multi-element image sensor, an electronic memory and a processing device, wherein the output electronic image from the system is linked by means of merging in the processing device to at least two intermediate images which are linked to the optical image from the scanning surface, in which a beam of radiation with wavelengths less than L is at least five times superior to a beam of radiation with wavelengths greater than L, and the value of L satisfies the condition 0.37L/(ANT)<；1, where L is the critical wavelength in micrometers, T is the interval of the light-sensitive elements in micrometers, A is the numerical aperture of the optical system on the image sensor side, and N is the number of light-sensitive elements of the image sensor to one element of the output image.Изобретение относится к области биометрии. Технический результат заключается в снижении стоимости, повышении надежности, обеспечении высокого качества изображения, малых габаритных размеров, высокого быстродействия и пониженного энергопотребления системы регистрации папиллярных узоров. Система содержит источник света, элемент, задающий положение поверхности считывания, оптическую систему, многоэлементный приемник изображения, электронную память и устройство обработки, причем выходное электронное изображение системы связано через смешение в устройстве обработки не менее чем с двумя промежуточными изображениями, связанными с оптическим изображением поверхности считывания, в котором поток излучения с длинами волн менее L не менее чем в пять раз превосходит поток излучения с длинами волн более L, а величина L соответствует у
