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基于双目标遗传算法的极紫外多层膜高精度表征方法
- 专利权人:
- 长春理工大学
- 发明人:
- 匡尚奇,王一名,孙秀平
- 申请号：
- CN201710220536.8
- 公开号：
- CN106990528A
- 申请日:
- 2017.04.06
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 仲崇明
- 摘要：
- 本发明公开了一种基于双目标遗传算法的极紫外多层膜高精度表征方法，该方法通过将实数编码的非支配排序遗传算法(NSGA‑II)应用于EUV多层膜的掠入射X射线反射谱与EUV反射谱的实验结果的联合拟合。将EUV多层膜的掠入射X射线反射谱与EUV反射谱作为双目标遗传算法的优化目标，进化获得接近Pareto前沿的非支配解集，利用Levenberg‑Marquart算法对非支配解集中两个拟合目标的拟合残余较小的优秀个体进一步优化，获得两个拟合目标拟合残余最小的最佳结构参数。本发明解决了基于单目标拟合(掠入射X射线反射谱或EUV反射谱)求解中的多解问题，并避免了将两个拟合目标简单加和联合拟合求解时，目标之间相互影响，甚至严重倾向于其中一个目标造成多层膜微观结构表征精度不高的问题。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
