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放射線照射装置、プログラム及び放射線照射方法
专利权人:
FUJIFILM CORP
发明人:
KUWABARA TAKAO,桑原 孝夫,SHIMIZU HITOSHI,清水 仁
申请号:
JP2011289468
公开号:
JP2013138694A
申请日:
2011.12.28
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation irradiation apparatus, a program and a radiation irradiation method that can emit a radiation beams with high therapeutic effect to a wide range while reducing destruction of normal cells.SOLUTION: The radiation irradiation apparatus includes: a radiation emission device for emitting a radiation beam a radiation shield arranged on a downstream side in an emitting direction of the radiation beam with respect to the radiation emission device, having a plurality of slits to cause the emitted radiation beam to pass and for shielding the radiation beam incidents to other than the plurality of slits and a control unit (S115) for controlling to move at least one of a first region and a second region so that the second region as an irradiation region of the radiation beam passed through the radiation shield relatively moves with respect to the first region as an irradiation target of the radiation beam, and controlling to irradiate the radiation beam so that a part of the radiation beam passed through the slits before and after the moving.COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】正常細胞の破壊を軽減しつつ、治療効果の高い放射線ビームを広範囲に照射することができる放射線照射装置、プログラム及び放射線照射方法を提供する。【解決手段】放射線ビームを出射する放射線出射装置と、放射線出射装置に対して放射線ビームの出射方向下流側に配置され、入射した放射線ビームを通過させる複数のスリットを有するとともに複数のスリット以外に入射した放射線ビームを遮蔽する放射線遮蔽体と、放射線ビームの照射対象である第1領域に対して、放射線遮蔽体を通過した放射線ビームの照射領域である第2領域が相対的に移動するように第1領域及び第2領域の少なくとも一方を移動させる制御を行うと共に、移動前後でスリットを通過した放射線ビームの一部が重なるように放射線ビームを照射する制御を行う制御手段(S115)とを具備する。【選択図】図6
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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