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PROCÉDÉ DE RETRAIT D'UN ONGLE ARTIFICIEL
专利权人:
FUJIFILM CORPORATION;富士フイルム株式会社
发明人:
TAKANASHI Genki,高梨 元気,OCHIMIZU Tomoki,落水 朋樹,高梨 元気,落水 朋樹
申请号:
JPJP2015/060069
公开号:
WO2015/152210A1
申请日:
2015.03.31
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
The purpose of the present invention is to provide a method for removing artificial nails that shortens the removal time. This method for removing artificial nails is characterized in having an interface-exposure step for grinding and/or cutting the tip of the artificial nail formed on the nail and exposing part of the interface of the nail and the artificial nail, a removal liquid contact step for bringing a removal liquid into contact with the interface of the nail and the artificial nail, and a detachment step for detaching the artificial nail from the nail by using the exposed interface as a starting point. The artificial nail is preferably formed by curing a curable composition using active light.L'invention concerne un procédé permettant de retirer des ongles artificiels tout en réduisant le délai du retrait. Le procédé selon l'invention est caractérisé par une phase d'exposition de l'interface consistant à polir et/ou à couper le bout de l'ongle artificiel recouvrant l'ongle naturel et à exposer une partie de l'interface ongle naturel-ongle artificiel, une phase de contact avec un liquide de retrait consistant à mettre en contact un liquide de retrait avec l'interface ongle naturel-ongle artificiel, et une phase de détachement consistant à détacher l'ongle artificiel de l'ongle naturel en utilisant l'interface exposée comme point de départ. L'ongle artificiel est de préférence formé en photopolymérisant une composition vulcanisable avec une lumière active.除去時間が短縮された人工爪の除去方法を提供することを目的とする。 本発明の人工爪の除去方法は、爪上に形成された人工爪の先端を研磨及び/又は切削して、爪と人工爪との界面の一部を露出させる界面露出工程と、爪と人工爪との界面に除去液を接触させる除去液接触工程と、露出された界面を出発点として人工爪を爪から剥離する剥離工程とを有することを特徴とする。人工爪は活性光線による硬化性組成物の硬化により形成されたものであることが好ましい。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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