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Artificial nail composition, artificial nail, method for forming artificial nail, method for removing artificial nail, and nail art kit
专利权人:
富士フイルム株式会社
发明人:
渡邊 ゆきえ,大橋 秀和,阿部 純也
申请号:
JP2015508571
公开号:
JPWO2014157271A1
申请日:
2014.03.26
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
Artificial nail composition having excellent stability over time and excellent gloss, removability, adhesion and water resistance of the resulting artificial nail, and artificial nail using the artificial nail composition, artificial nail formation method, artificial nail It is an object of the present invention to provide a method for removing water and a nail art kit. The artificial nail composition of the present invention contains (Component A) a compound having an ethylenically unsaturated group and a primary amino group and / or a secondary amino group, and (Component B) a photopolymerization initiator. It is characterized by that. Component A is preferably a compound represented by a specific chemical formula (I) and / or (II).経時安定性に優れ、得られる人工爪の光沢性、除去性、密着性及び耐水性に優れる人工爪組成物、並びに、上記人工爪組成物を用いた人工爪、人工爪の形成方法、人工爪の除去方法、及び、ネイルアートキットを提供することを目的とする。 本発明の人工爪組成物は、(成分A)エチレン性不飽和基と第1級アミノ基及び/又は第2級アミノ基とを有する化合物、並びに、(成分B)光重合開始剤を含有することを特徴とする。また、成分Aは特定の化学式(I)及び/又は(II)で表される化合物であることが好ましい。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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