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一种提高瑞格列奈片稳定性的制备方法
专利权人:
北京华禧联合科技发展有限公司
发明人:
方玲利,魏爱伟,毕华
申请号:
CN201310697473.7
公开号:
CN103690498A
申请日:
2013.12.18
申请国别(地区):
CN
年份:
2014
代理人:
摘要:
本发明公开了一种瑞格列奈片组合物,该组合物包含活性成分瑞格列奈、稀释剂、崩解剂、增溶剂、润滑剂;本发明还公开了瑞格列奈片组合物的制备方法,采用粉末直接压片,避开了干燥过程中湿热对产品质量的影响,且生产操作方便,有关物质含量低,稳定性佳。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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