多孔二氧化硅系颗粒和清洁用化妆品
- 专利权人:
- 日挥触媒化成株式会社
- 发明人:
- 渡边慧,榎本直幸,三好康敬,小松通郎
- 申请号：
- CN201580055639.2
- 公开号：
- CN106794995B
- 申请日:
- 2015.11.05
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明对在清洁用化妆品中用作磨砂剂的多孔二氧化硅系颗粒进行最优化。本发明的多孔二氧化硅系颗粒的平均圆度为0.1～0.5，微孔容积(Pv)为1.0～2.0ml/g，众数直径(Dm)为50～600μm，最大粒径(D100)与众数直径(Dm)之比(D100/Dm)为3.0以下，用1.0～1.4KPa的负荷涂擦30秒钟后的中位径(DR50)为0.5～25μm，最大粒径(DR100)为1～100μm。按照使用所述颗粒的清洁用化妆品，利用涂擦中与皮肤的摩擦产生的摩擦力摩擦皮肤，能够得到柔和的角质层剥脱效果，并且能够防止皮肤的损伤和对角质层造成的微小损伤。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
