Inhibitor of skin cell abnormality due to light exposure

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专利权人:

大塚製薬株式会社

发明人:

河村 光章,篠原 茂生,原野 史樹,青木 彰寛,上野 絵理

申请号：

JP2013516160

公开号：

JP2013529628A

申请日:

2011.06.24

申请国别(地区):

JP

年份:

2013

代理人:

摘要：

An object of the present invention is to provide an agent for suppressing the formation of skin cells induced by exposure to light such as ultraviolet light. The object is achieved by using a purine nucleic acid for suppressing the formation of abnormal skin cells caused by exposure to light.本発明は、紫外線等の光曝露によって誘発される皮膚細胞の異常化の抑制剤を提供することを目的とする。プリン系核酸を有効成分として含有することを特徴とする、光曝露に起因する皮膚細胞異常化の抑制剤によって解決される。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/