PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a photocatalytic function material capable of forming a photocatalyst layer having a photocatalytic function on a substrate.SOLUTION: The above problems are solved by a method for producing a photocatalytic function material 11, which comprises steps of: preparing a substrate 1； forming a photocatalyst material layer on the whole or a part of the surface of the substrate 1； subjecting the photocatalyst material layer to plasma processing to form a photocatalyst layer 3 having a photocatalytic function； and irradiating the photocatalyst layer 3 with visible light and in which the product of the illuminance (lx) and the irradiation time (hr) of the visible light is set at 1×10or more. In the step of forming the photocatalyst layer, a discharge gas used in the plasma processing preferably is argon gas, carbon dioxide gas, carbon monoxide gas, nitrogen gas, ammonia gas, carbon tetrafluoride, carbon hexafluoride or a mixed gas thereof.【課題】基材上に高い光触媒能を有する光触媒層を形成することができる光触媒機能材料の製造方法を提供する。【解決手段】基材１を準備する工程と、その基材１の表面の全て又は一部に光触媒材料層を形成する工程と、その光触媒材料層をプラズマ処理し、光触媒能を有する光触媒層３を形成する工程と、その光触媒層３に可視光を照射する工程とを有し、前記可視光の照度（lx）と照射時間（hr）との積を１×１０５以上にする光触媒機能材料１１の製造方法により上記課題を解決した。前記の光触媒層形成工程において、プラズマ処理で用いる放電ガスを、アルゴンガス、二酸化炭素ガス、一酸化炭素ガス、窒素ガス、アンモニアガス、四フッ化炭素、六フッ化硫黄、又はそれらを含む混合ガスとすることが好ましい。【選択図】図１
