The present invention relates to a device for drying a low temperature plasma sterilizer, wherein moisture existing in a chamber in which sterilization is performed is removed and hydrogen peroxide vapor is not absorbed in a product so that sterilization effects are improved and moisture is not supplied in a vacuum pump. Hydrogen peroxide vapor is supplied in a vacuum chamber so that a product loaded in the chamber is sterilized. A drying device is installed at the front end of the vacuum pump which discharges the internal air from the chamber. A moisture absorbent is filled between branch-shaped heating plates in the drying device. Valves are installed at a feeding hole and a discharge hole of the drying device. A valve for discharging internal moisture to the top of the drying device is installed.본 발명은 저온 플라즈마 멸균기에서, 멸균이 이루어지는 챔버 내에 존재하는 수분을 제거하여 제품에 과산화수소 증기가 흡수되는 경우를 없앰으로써 멸균 효율을 높이는 한편 진공펌프로 수분이 유입되지 않도록 하는 저온 플라즈마 멸균기의 건조장치에 관한 것이다. 본 발명은 진공이 형성된 챔버의 내부에 과산화수소 증기를 주입하여 챔버에 적대된 제품에 대한 멸균이 이루어지게 하는 장치에 있어서, 상기 챔버의 내부공기를 배출시키는 진공펌프의 전단에 건조장치를 설치하되 상기 건조장치에는 나뭇가지 형태의 가열판 사이로 흡습제를 채워준 후 상기 건조장치의 흡입구와 배출구에는 밸브를 설치하는 한편 건조장치의 상측으로 내부 습기를 배출시키는 밸브를 설치함으로써 이루어진다.
