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粒子线照射装置及粒子线治疗系统
- 专利权人:
- 株式会社日立制作所
- 发明人:
- 中岛裕人,青木孝道
- 申请号：
- CN201910324187.3
- 公开号：
- CN110404183A
- 申请日:
- 2019.22.04
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供大照射野且高扫描速度、而且小型的粒子线照射装置及粒子线治疗系统。粒子线照射装置(1204)具备在相互正交的垂直方向(第一方向)或水平方向(第二方向)上扫描射束的三台以上的扫描电磁铁(101a、101b、102a、102b),就三台以上的扫描电磁铁(101a、101b、102a、102b)而言,在垂直方向或水平方向中相同方向上扫描的扫描电磁铁(101a、101b)及扫描电磁铁(102a、102b)在射束的前进方向轴(103)上串联配置,且在前进方向轴(103)上越是设置于远离等中心(104)的位置的扫描电磁铁(101a、101b、102a、102b),磁场施加区域(205)的体积越小。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
