带电粒子束照射装置、带电粒子束照射方法及带电粒子束照射程序
- 专利权人:
- 住友重机械工业株式会社
- 发明人:
- 桔正则
- 申请号：
- CN201110217159.5
- 公开号：
- CN102380171B
- 申请日:
- 2011.07.29
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2015
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明的目的在于提供一种带电粒子束照射装置、带电粒子束照射方法及带电粒子束照射程序，其高精确度地控制带电粒子束的照射量。本发明的带电粒子束照射装置(100)具备：扫描磁铁(3)，在被照射物(52)上扫描带电粒子束(R)；照射量设定部(10)，设定带电粒子束(R)在通过扫描磁铁(3)在被照射物上扫描的带电粒子束(R)的扫描线(L)上各目标扫描位置上的照射量；及扫描速度设定部(11)，根据被设定的照射量，设定带电粒子束在各个目标扫描位置上的目标扫描速度。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
