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세정용 습식 시트용 세정용 조성물 및 그것을 포함하는 세정용 습식 시트
专利权人:
发明人:
이시다, 미사키,오다, 요시히토,테라오카, 사토미,반도, 타케시,우에다, 타카히로
申请号:
KR1020097021641
公开号:
KR1014825950000B1
申请日:
2008.03.13
申请国别(地区):
KR
年份:
2015
代理人:
摘要:
The present invention, polishing is for a smooth and cleaning does and good removal of pollution, has a sufficient cleaning power, to finish a smooth skin is not sticky after use, was burden skin rough membrane, and re-contamination is not well when cleaning again for its object to provide a cleaning composition for obtaining a wet sheet. Cleaning composition for wet cleaning sheet of the present invention is a silicon compound (a) 0.001% by weight to 1% by weight, a water-soluble amino acid or a derivative thereof (b) 0.001% by weight to 1% by mass, an amide beta doll amphoteric surfactant (c) 0.001 mass% ~0.5% by weight, the water-soluble polyvalent alcohol (d) 0.1% by mass to 7% by weight, and the acrylic polymer (e) 0.0005% by weight to 1% by mass containing.본 발명은, 닦기가 원활하고 오염의 제거가 양호하며, 충분한 세정력을 가지고, 사용 후에 피부가 끈적거리지 않고 매끄럽게 한 마무리로, 피부 거칠어짐을 막으며, 또한 재차 닦을 때에 재오염이 잘 되지 않는 세정용 습식 시트를 얻기 위한 세정용 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 세정용 습식 시트용 세정용 조성물은 실리콘 화합물(a) 0.001 질량%∼1 질량%, 수용성 아미노산 또는 그 유도체(b) 0.001 질량%∼1 질량%, 아미드 베타인형 양성 계면활성제(c) 0.001 질량%∼0.5 질량%, 수용성 다가 알코올(d) 0.1 질량%∼7 질량%, 및 아크릴계 폴리머(e) 0.0005 질량%∼1 질량%를 함유한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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