This plasma treatment system (1) is provided with: ejection ports (18) a suction port (19) a first electrode (15) and a second electrode (16) an impedance acquisition unit (201) a liquid-amount adjustment unit (5) and a first control unit (203). The first electrode (15) and the second electrode (16) are configured such that, as a result of applying a voltage thereto, plasma for treating biological tissue is generated. The impedance acquisition unit (201) acquires the impedance between the first electrode and the second electrode. The liquid-amount adjustment unit (5) adjusts the supply amount or the suction amount of a conductive solution. The first control unit (203) controls, on the basis of the impedance, the liquid-amount adjustment unit such that the supply amount or the suction amount of the conductive solution is increased or decreased.Linvention concerne un système de traitement au plasma (1) comprenant : des orifices déjection (18) un orifice daspiration (19) une première (15) et une deuxième électrode (16) une unité dacquisition dimpédance (201) une unité de réglage de quantité de liquide (5) ainsi qune première unité de commande (203). La première (15) et la deuxième électrode (16) sont configurées de sorte que du plasma destiné à traiter un tissu biologique soit généré, suite à lapplication dune tension sur lesdites électrodes. Lunité dacquisition dimpédance (201) acquiert limpédance entre la première et la deuxième électrode. Lunité de réglage de quantité de liquide (5) règle la quantité dalimentation ou la quantité daspiration dune solution conductrice. La première unité de commande (203) commande, en fonction de limpédance, lunité de réglage de quantité de liquide, de sorte à augmenter ou diminuer la quantité dalimentation ou daspiration de solution conductrice.プラズマ処置システム(1)は、噴出口(18)と、吸引口(19)と、第1の電極(15)及び第2の電極(16)と、インピーダンス取得部(201)と、液量調整部(5)と、第1の制御部(203)とを備える。第1の電極(15)及び第2の電極(16)は、電圧が印加されることで生体組織を処置するためのプラズマを発生するように構成されている。インピーダンス取得部(201)は、前記第1の電極
