This application discloses a device (1) for cleaning a surface of a structure in a water column, which includes at least one fin (3) guiding device (1) moving towards the underwater surface, and at the same time Ositivo (1) moves to TRAV AMP； EACUTE； water column S moves in one direction and AMP； OACUTE； parallel to the surface layer of water； at least in a jumping way, making rotation with AMP； OACUTE； at least one fin (3),About CI AMP； OACUTE； N Devices for ACT AMP Resistance to Progress (1)； UACUTE； A with at least one fin (3),Among them, rotation CI AMP； Oacute； N, at least one fin (3) is restricted to align the device (1) to the underwater surface. A. In a realici amp； Oacute； n, the device includes a spring (61) that rotates around its top (611) in response to contact with the underwater surface.<；p>；LA PRESENTE SOLICITUD DIVULGA UN DISPOSITIVO (1) PARA LIMPIAR UNA SUPERFICIE DE UNA ESTRUCTURA DONDE LA SUPERFICIE ESTÁ； SUMERGIDA EN UNA COLUMNA DE AGUA, EL CUAL COMPRENDE: POR LO MENOS UNA ALETA (3) PARA DIRIGIR EL DISPOSITIVO (1) CONTRA LA SUPERFICIE SUMERGIDA MIENTRAS EL DISPOSITIVO (1) SE MUEVE A TRAVÉ；S DE LA COLUMNA DE AGUA EN UNA DIRECCIÓ；N PARALELA A LA SUPERFICIE SUMERGIDA； Y POR LO MENOS UN MEDIO DE PIVOTE PARA PERMITIR LA ROTACIÓ；N DE LA POR LO MENOS UNA ALETA (3), EN RELACIÓ；N CON EL DISPOSITIVO (1) EN RESPUESTA A UNA RESISTENCIA AL AVANCE QUE ACTÚ；A SOBRE LA POR LO MENOS UNA ALETA (3), EN EL CUAL LA ROTACIÓ；N DE LA POR LO MENOS UNA ALETA (3) ES RESTRINGIDA PARA DIRIGIR EL DISPOSITIVO (1) CONTRA LA SUPERFICIE SUMERGIDA. EN UNA REALIZACIÓ；N, EL DISPOSITIVO COMPRENDE ESCOBILLAS (61) QUE ROTAN EN TORNO A SUS PIVOTES (611) EN RESPUESTA A UN CONTACTO CON LA SUPERFICIE SUMERGIDA.<；/p>；
