PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a chlorine dioxide inclusion composition, a chlorine dioxide inclusion sheet and a chlorine dioxide inclusion mask, that are suitably used for processing of an allergy-inducing substance such as pollen, indoor dust, skin waste, fungus and the like, and a harmful matter such as virus, pathogen and the like, and to provide a processing method of the harmful matter using them.SOLUTION: A chlorine dioxide inclusion composition includes: chlorine dioxide a chlorite an aliphatic compound having two or more hydroxy groups and moisture dissolving them. A chlorine dioxide inclusion sheet is formed by that the chlorine dioxide inclusion composition is supported by a breathable sheet. A processing method of a harmful matter comprises making the harmful matter contact to the chlorine dioxide inclusion composition, the chlorine dioxide inclusion sheet or the chlorine dioxide inclusion mask.COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT【課題】花粉、室内塵、皮屑、真菌などのアレルギー誘発物質、ウイルス、病原菌などの有害物質の処理に好適に用いられる二酸化塩素含有組成物、二酸化塩素含有シート、二酸化塩素含有マスク、およびそれらを用いた有害物質の処理方法を提供する。【解決手段】本二酸化塩素含有組成物は、二酸化塩素と、亜塩素酸塩と、水酸基を複数有する脂肪族化合物と、それらを溶存する水分と、を含む。本二酸化塩素含有シートは、上記の二酸化塩素含有組成物が通気性シートに保持されて形成されたものである。本有害物質の処理方法は、二酸化塩素含有組成物または二酸化塩素含有シートまたは二酸化塩素含有マスクと有害物質とを接触させるものである。【選択図】なし
