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OXYGEN FACEMASK WITH CAPNOGRAPHY MONITORING PORTS
专利权人:
MONITOR MASK INC;モニター マスク インク.
发明人:
JOHN W BEARD,ビアード、ジョン ダブリュー.,ビアード、ジョン ダブリュー.
申请号:
JP2016092484
公开号:
JP2016154931A
申请日:
2016.05.02
申请国别(地区):
JP
年份:
2016
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an oxygen face mask useful for sampling carbon dioxide.SOLUTION: The present invention provides an oxygen face mask 10 to cover a user's nose and at least partially cover a user's mouth with lateral sampling ports 12, 14; systems including such a face mask; and methods of using such a face mask.SELECTED DRAWING: Figure 1【課題】二酸化炭素のサンプリングに有用な酸素フェイスマスクを提供する。【解決手段】側方サンプリングポート12、14を有する、ユーザーの鼻を覆うとともにユーザーの口を少なくとも部分的に覆う酸素フェイスマスク10、そのようなフェイスマスクを含むシステム、及びそのようなフェイスマスクを使用する方法。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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