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COATING MEDICAL DEVICES
专利权人:
发明人:
申请号:
EP03786781.9
公开号:
EP1581278B1
申请日:
2003.11.18
申请国别(地区):
EP
年份:
2012
代理人:
摘要:
Methods and systems for coating at least a portion of a medical device (e.g., a stent structure) include providing a plurality of coating particles (e.g., monodisperse coating particles) in a defined volume. For example, the particles may be provided using one or more nozzle structures, wherein each nozzle structure includes at least one opening terminating at a dispensing end. The plurality of coating particles may be provided in the defined volume by dispensing a plurality of microdroplets having an electrical charge associated therewith from the dispensing ends of the one or more nozzle structures through use of a nonuniform electrical field between the dispensing ends and the medical device. Electrical charge is concentrated on the particle as the microdroplet evaporates. With a plurality of coating particles provided in the defined volume, such particles can be moved towards at least one surface of the medical device to form a coating thereon (e.g., using an electric field and/or a thermophoretic effect).La présente invention concerne des procédés et des systèmes pour appliquer un revêtement sur au moins une partie dun dispositif médical (par exemple une structure dendoprothèse). Ces procédés consistent à amener une pluralité de particules de revêtement (par exemple des particules de revêtement monodispersées) dans un volume défini. Les particules peuvent par exemple être amenées au moyen dune ou de plusieurs structures de buse, chaque structure de buse comprenant au moins une ouverture qui débouche à une extrémité de distribution. La pluralité de particules de revêtement peut être amenée dans le volume défini par distribution dune pluralité de microgouttes auxquelles est associée une charge électrique, depuis les extrémités de distribution de la ou des structures de buse, au moyen dun champ électrique non uniforme entre les extrémités de distribution et le dispositif médical. Une charge électrique est concentrée sur la particule lorsque la microgoutte sévapore
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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