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Apparatus for providing plasma flow
专利权人:
リンデ アクチエンゲゼルシャフト
发明人:
ホルベッチ,トーマス・ビックフォード,ホルベッチ,トーマス・ビックフォード
申请号:
JP2015547134
公开号:
JP2016507255A
申请日:
2013.12.16
申请国别(地区):
JP
年份:
2016
代理人:
摘要:
An apparatus (100) for generating a gas plasma with active species at ambient atmospheric pressure for treatment of a treatment area. The apparatus comprises a plasma cell (112) that forms a gas plasma. The plasma cell includes an inlet (116) that receives gas from a source (118) and an outlet (119) that discharges active species generated in the plasma cell. A dielectric substrate (22), preferably made of polyimide, surrounds the flow path of gas transported from the inlet to the outlet to energize the gas along the flow path to form active species. An electrode (26) is formed on the dielectric substrate. The protective lining (32) is located on the inner surface of the dielectric substrate (22) to suppress reaction with the material of the active species dielectric substrate (22). A ground electrode (140) comprising an electrode formed on a dielectric substrate substantially surrounds the plasma cell and at least partially overlaps the plasma cell. [Selection] Figure 7治療領域の治療のために活性種を備えるガスプラズマを環境大気圧において形成する装置(100)。装置はガスプラズマを形成するプラズマセル(112)を備える。プラズマセルは、ソース(118)からガスを受け取る入口(116)と、プラズマセルで生成された活性種を放出する出口(119)とを備える。好ましくはポリイミドで出来ている誘電体基板(22)は、入口から出口まで搬送されるガスの流路の周りを囲み、活性種を形成するように流路に沿ってガスを付勢するために誘電体基板上に電極(26)が形成される。保護ライニング(32)は、活性種の誘電体基板(22)の材料との反応を抑えるために誘電体基板(22)の内側表面に位置している。誘電体基板上に形成された電極を備える接地電極(140)は、プラズマセルを実質的に取り囲み、プラズマセルに少なくとも部分的に重なる。【選択図】図7
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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