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放射性核種製造装置、ターゲット装置及び放射性薬剤の製造方法
专利权人:
日本メジフィジックス株式会社
发明人:
伊藤 禎弘
申请号:
JP20160172230
公开号:
JP2018013465(A)
申请日:
2016.09.02
申请国别(地区):
日本
年份:
2018
代理人:
摘要:
【課題】加速器に対する取り付けに支障をきたすことがなく、ビームの照射を受けたターゲットの冷却効率が高い放射性核種製造装置、ターゲット装置を提供する。【解決手段】液状のターゲットを収容する照射容器51、照射容器51と連通する連通口531を有し、荷電粒子ビームPbの照射によってターゲットが液体または気体の状態で上昇し得るチムニー53、チムニー53に向けて開口された開口部551を有し、この開口部551がチムニー53の連通口531よりも狭いスリット55、スリット55に流入したターゲットを照射容器51に帰還させる帰還路の一つである連通路57、によって荷電粒子ビームPbを液状のターゲットに照射して18Fを生成する放射性核種製造装置を構成する。【選択図】図5
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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