An implant material is provided with a substrate (10), and a carbon material film (20) formed on the surface of the substrate (10). The surface of the carbon material film (20) comprises carbon atoms, oxygen atoms, and nitrogen atoms. The carbon atoms bond with the oxygen atoms to form carbon-oxygen single bonds and carboxyl carbon. The content percentage of nitrogen atoms on the surface of the carbon material film (20) is at least 8.0 atom %； the content percentage of carbon-oxygen single bonds is at least 5.4%； and the content percentage of carboxyl carbon is not more than 3.1%.L'invention porte sur un matériau d'implant comportant un substrat (10) et un film en matière carbonée (20) formé sur la surface du substrat (10). La surface du film en matière carbonée (20) comprend des atomes de carbone, des atomes d'oxygène et des atomes d'azote. Les atomes de carbone se lient aux atomes d'oxygène pour former des liaisons simples carbone-oxygène et du carbone de carboxyle. La teneur en pourcentage d'atomes d'azote sur la surface du film en matière carbonée (20) est d'au moins 8,0 % atomiques ； la teneur en pourcentage de liaisons simples carbone-oxygène est d'au moins 5,4 % ； et la teneur en pourcentage du carbone de carboxyle n'est pas supérieure à 3,1 %.インプラント用材料は、基材１０と、基材１０の表面に形成された炭素質膜２０とを備えている。炭素質膜２０は、その表面において炭素原子、酸素原子及び窒素原子を有し、炭素原子は酸素原子と結合して酸素隣接一重結合性炭素及びカルボキシル基炭素を形成している。炭素質膜２０の表面における窒素原子の含有率は８．０原子％以上であり、酸素隣接一重結合性炭素の含有率は５．４％以上であり、カルボキシル基炭素の含有率は３．１％以下である。
