紫外線およびプラズマで処理された高分子膜
- 专利权人:
- サビック グローバル テクノロジーズ ビー．ブイ．
- 发明人:
- オデー イハブ ニザール,シャオ レイ,コペック カリーナ ケイ．
- 申请号：
- JP20160525890
- 公开号：
- JP2017500184(A)
- 申请日:
- 2014.12.15
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- ポリマーブレンドの膜ならびに、該膜を処理するおよび使用するための方法が開示される。高分子膜は、少なくとも固有微多孔性ポリマー（PIM）と第2のポリマーとのブレンドを含み、紫外線（UV）放射およびプラズマで処理されている。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
