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Apparatus for guiding the placement of a subcutaneous device
专利权人:
William J. Havel
发明人:
William J. Havel,Teresa A. Whitman,Laurie D. Foerster,Mark T. Marshall
申请号:
US12431926
公开号:
US09101389B2
申请日:
2009.04.29
申请国别(地区):
US
年份:
2015
代理人:
摘要:
An apparatus for guiding the placement of a subcutaneous device that includes a strap having an indentation configured for a fold of skin and fat layer to be positioned within the indentation as the subcutaneous device is advanced to a desired implantation site.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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