РЮЭЙТЕРС Даниэль Симон Анна (NL),ДЕНИССЕН Сандер (NL),БАККЕР Николас Хилке (NL)
申请号：
RU2012117621/14
公开号：
RU2012117621A
申请日:
2010.09.28
申请国别(地区):
RU
年份:
2013
代理人:
摘要：
FIELD: medicine.SUBSTANCE: group of inventions refers to methods and systems for localising an X-ray imaging device. The method creates a reference plane crossing a three-dimensional image of an object, a central point at a crossing of the object, a normal vector to the reference plane and at least one tangential vector on the reference plane. Thereafter the reference place, reference system of the object and reference system of the X-ray imaging device are recorded. That is followed by specifying at least one viewing direction produced from the normal vector and/or at least from one tangential vector the X-ray imaging device is adjusted by geometrical parameters of the X-ray imaging device.EFFECT: using the invention provides the automatic localisation of the X-ray imaging device and the faster correction of the actual accompanying image that results in lesser radiation exposure.8 cl, 5 dwgГруппа изобретений относится к способам и системам для позиционирования устройства получения рентгеновского изображения. В способе создаются плоскость отсчета, пересекающая трехмерное изображение объекта, центральная точка в пересечении объекта, нормальный вектор к плоскости отсчета и по меньшей мере один тангенциальный вектор на плоскости отсчета. После этого плоскость отсчета, система отсчета объекта и система отсчета устройства получения рентгеновского изображения регистрируются. Задается по меньшей мере одно направление наблюдения, получаемое из нормального вектора и/или по меньшей мере из одного тангенциального вектора, причем устройство получения рентгеновского изображения регулируется по геометрическим параметрам устройства получения рентгеновского изображения. Использование изобретения обеспечивает автоматическое позиционирование устройства получения рентгеновского изображения и гораздо более быструю корректировку реально сопровождающего изображения, результатом чего является меньшее воздействие облучением. 4 н. и 4 з.п. ф-лы, 5 ил.
