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抗菌剤、抗菌剤分散液、およびこれを用いた抗菌加工製品
专利权人:
SUMITOMO CHEMICAL CO LTD
发明人:
TAKAMI HITOSHI,高見 仁,SAKATANI YOSHIAKI,酒谷 能彰
申请号:
JP2012086969
公开号:
JP2013216596A
申请日:
2012.04.06
申请国别(地区):
JP
年份:
2013
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antimicrobial agent exhibiting high antimicrobial performance even in a dark place, also exhibiting higher antimicrobial performance under visible light irradiation and capable of killing bacteria such as pathogenic bacteria.SOLUTION: An antimicrobial agent includes zirconium oxide particles having the average particle size of 10 to 100 nm, and preferably includes photocatalyst particles further. As the photocatalyst particles, e.g. tungsten oxide particles can be cited. The antimicrobial agent is used in the form of an antimicrobial agent dispersion, and, is, e.g. used in the production of an antimicrobial-treated product.COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT【課題】暗所でも高い抗菌性能を発揮し、かつ可視光照射下ではより高い抗菌性能を発揮し、病原菌などの菌を死滅させることができる抗菌剤を提供する。【解決手段】本発明の抗菌剤は、10~100nmの平均粒子径を有する酸化ジルコニウム粒子を含有し、好ましくは光触媒粒子をさらに含有する。このような光触媒粒子としては、例えば酸化タングステン粒子が挙げられる。本発明の抗菌剤は、好ましくは抗菌剤分散液の形態で用いられ、例えば抗菌加工製品の製造などに用いられる。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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