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STABILISATION DU SULFORAPHANE
专利权人:
AURIGA INTERNATIONAL
发明人:
DUBOIS, JACQUES,DUBOIS, Jacques,MARCHAL, ALFRED,MARCHAL, Alfred,LACROIX, DAMIEN,LACROIX, Damien,CABOU, JEROME,CABOU, Jérôme
申请号:
EPEP2011/062329
公开号:
WO2012/010587A1
申请日:
2011.07.19
申请国别(地区):
WO
年份:
2012
代理人:
摘要:
Stable galenical composition of a compound of formula (I) in which R1 and R2 are both, independently of one another, an alkyl, aryl or arylalkyl group, optionally substituted with one or more linear or branched, optionally cyclic, groups, optionally bearing one or more heteroatoms, comprising said compound of formula (I) in an amount ranging from 0.01% to 15% by weight, with respect to the total weight of the composition, - at least one anhydrous ester of which the main chain and/or optionally the branched chains have no free and/or reactive groups or functions, in an amount ranging from 0.1 to 99.9% by weight, with respect to the total weight of cosmetically and pharmaceutically acceptable composition and - optionally at least one cosmetically and pharmaceutically acceptable excipient to make up 100% of the total weight of the composition.Composition galénique stable dun composé de formule générale (I) dans laquelle R1 et R2 représentent tous deux, indépendamment lun de lautre, un groupe alkyle, aryle, arylalkyle, éventuellement substitué par un ou plusieurs groupements linéaires ou ramifiés, éventuellement cycliques, portant éventuellement un ou plusieurs hétéroatomes, Formula (I) comprenant ledit composé de formule (I) dans une quantité allant de 0,01% à 15% en poids par rapport au poids total de la composition - au moins un ester anhydre dont la chaîne principale et/ou éventuellement les chaînes ramifiées sont exemptes de groupes ou fonctions libres et/ou réactives, dans une quantité allant de 0,1 à 99,9% en poids par rapport au poids total de composition cosmétiquement et pharmaceutiquement acceptable, et - éventuellement au moins un excipient cosmétiquement et pharmaceutiquement acceptable pour compléter 100% du poids total de la composition.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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