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Producing minimum crosslinked silicic acid structures, comprises preparing a sol, replacing water present in sol by a water-soluble organic solvent, and replacing hydrogen atoms of surface silicon hydroxide groups by a chemical group
专利权人:
GERBER; THOMAS
发明人:
GERBER, THOMAS
申请号:
DE102011009838
公开号:
DE102011009838A1
申请日:
2011.01.31
申请国别(地区):
DE
年份:
2012
代理人:
摘要:
Gegenstand der Erfindung ist ein Biomaterial vorwiegend aus Siliziumdioxid (SiO2), das in der Medizin für therapeutische Zwecke eingesetzt wird und dabei einen unmittelbaren Kontakt mit biologischem Gewebe des Körpers eingeht. Dieses Material tritt dabei in chemische, physikalische und biologische Wechselwirkungen mit den entsprechenden biologischen Systemen. Es wird dabei abgebaut und wirkt als Lieferant für die im Stoffwechsel benötigte Kieselsäure. Es kann darüber hinaus eine stützende oder abschirmende Wirkung haben und liegt als Granulat, Mikropartikel, Faser und daraus hergestellten Gewebe oder Vliese oder als Schicht auf Implantaten oder Wundverbänden vor. Weiterhin dient das Material als Nahrungsergänzung. Gegenstand der Erfindung ist ebenfalls ein Verfahren zur Herstellung des vorwiegend aus Siliziumdioxid bestehenden Materials in den oben beschrieben Modifikationen.Producing minimum crosslinked silicic acid structures, comprises (a) preparing a sol, (b) replacing the water present in the sol by a water-soluble organic solvent, and (c) replacing the hydrogen atoms of the surface silicon hydroxide groups, which are present at the inner surface of the silicic acid clusters, after removing the water in the sol, by a chemical group, which prevents further condensation of two surface silicon hydroxide groups to silicon condensation product (II) and water, and does not undergo polymerization. The chemical group comprises an organic group towards its surface. Producing minimum crosslinked silicic acid structures, comprises (a) preparing a sol, (b) replacing the water present in the sol by a water-soluble organic solvent, and (c) replacing the hydrogen atoms of the surface silicon hydroxide groups (Si(surface)OH), which are present at the inner surface of the silicic acid clusters, after removing the water in the sol, by a chemical group, which prevents further condensation of two surface silicon hydroxide groups to silicon condensation product of formula (Si(bulk)
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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