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照射至少两个目标体积
- 专利权人:
- GSI重离子研究亥姆霍茨中心有限公司
- 发明人:
- C·贝尔特,E·里茨尔
- 申请号：
- CN200980147863.9
- 公开号：
- CN102227236B
- 申请日:
- 2009.10.17
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2014
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及一种用于计划利用一条接近目标点(72)的射线照射两个目标体积(81、92)的教导，用以在所述两个目标体积(81、92)中的第一目标体积中累积第一目标剂量分配和在所述两个目标体积(81、92)中的第二目标体积中累积第二目标剂量分配。该教导的特征在于以下步骤：使目标点(72)与所述目标体积(81、92)之一相配，确定由于接近与第一目标体积(81、92)相配的目标点(72)而引起的第一累积与由于接近与第二目标体积(81、92)相配的目标点(72)而引起的第二累积的叠加，以及匹配用于所述目标点(72)中的至少一个目标点的计划，接近所述至少一个目标点有助于第一和第二累积的叠加。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
