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気体噴出処理装置
专利权人:
ARAKAWA SEISAKUSHO;KK
发明人:
ARAKAWA MASAYOSHI,荒川 雅義
申请号:
JP2010259462
公开号:
JP2012112539A
申请日:
2010.11.19
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent decrease in treatment efficiency in a gas ejection treatment apparatus that ejects gas from above and below a treatment object.SOLUTION: The gas ejection treatment apparatus includes: a housing a conveyer 20 having air permeability and conveying a treatment object W in the housing and a plurality of upper nozzles 40a/lower nozzles 40b which are disposed in an upper chamber 30a/lower chamber 30b positioned above/below the conveyer 20, respectively, have cylindrical shapes facing downward/upward, and inject gas in the respective chambers 30a/30b. The upper nozzle 40a and the lower nozzle 40b are not aligned on the same vertical line. The upper nozzles 40a are disposed at an equal spacing on the upper chamber 30a the lower nozzles 40b are disposed at positions corresponding to the intermediate positions of the adjoining upper nozzles 40a, at an equal spacing on the lower chamber 30b.COPYRIGHT: (C)2012,JPO&INPIT【課題】被処理物に対して上下から気体を噴出させる気体噴出処理装置において、処理の効率が減殺されないようにする。【解決手段】ハウジングと、通気性を有しハウジング内において被処理物Wを搬送するコンベア20と、コンベア20の上方/下方に位置する上側チャンバ30a/下側チャンバ30bに設けられ、下方/上方に向かう筒状をなし、各チャンバ30a/30bの内部の気体を噴出する複数の上側ノズル40a/下側ノズル40bとを有する。上側ノズル40aと下側ノズル40bとは同一鉛直線上にない。上側ノズル40aは上側チャンバ30aに対して均等な間隔を隔てて設けられ、下側ノズル40bは、隣接する上側ノズル40aの中間位置に対応する位置において、下側チャンバ30bに対して均等な間隔を隔てて設けられている。【選択図】図3
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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