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ボーラス、ボーラスの製造方法及び粒子線照射装置
专利权人:
MITSUBISHI ELECTRIC CORP
发明人:
IKEDA MASAHIRO,池田 昌広
申请号:
JP2010229555
公开号:
JP2012081050A
申请日:
2010.10.12
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a bolus capable of suppressing damage to tissue at a position shallower than a part to be irradiated and performing treatment, and to provide a particle beam irradiation apparatus.SOLUTION: The bolus 1 is installed in the particle beam irradiation apparatus 10 and includes a modulation part 1c for modulating the energy distribution of a particle beam B within an irradiation field, corresponding to the part 100TC to be irradiated. A water equivalent thickness distribution in the irradiation direction of the particle beam B of the modulation part 1c within the irradiation field is set so as to compensate the shape of a surface (the part from E1 to E2 on an LP side) on a shallow part (Proximal) side in the view from the irradiation direction of the particle beam B of the part 100TC to be irradiated or a depth distribution from a body surface.COPYRIGHT: (C)2012,JPO&INPIT【課題】被照射部よりも浅い位置にある組織に対するダメージを抑制して治療することができるボーラス、および粒子線照射装置を得ることを目的とする。【解決手段】粒子線照射装置10に設置され、照射野内の粒子線Bのエネルギー分布を被照射部100TCに応じて変調するための変調部1cを備えたボーラス1であって、照射野内での変調部1cの粒子線Bの照射方向における水等価厚み分布が、被照射部100TCの粒子線Bの照射方向から見て浅部(Proximal)側の面(LP側のE1からE2までの部分)の形状または体表面からの深さ分布を補償するように設定されることを特徴とする。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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