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Treatment device for treatment with a dielectrically impeded plasma
专利权人:
CINOGY GmbH
发明人:
Mirko Hahnl,Karl-Otto Storck,Leonhard Trutwig,Dirk Wandke,Matthias Kopp,Andreas Helmke
申请号:
DE102015111401
公开号:
DE102015111401B3
申请日:
2015.07.14
申请国别(地区):
DE
年份:
2016
代理人:
摘要:
Ein Behandlungsgerät für eine mit einem dielektrisch behinderten Plasma zu behandelnde Oberfläche, mit einem Gehäuse (1), das eine Stirnwand (14, 14') aufweist, mit einer zur zu behandelnden Oberfläche durch ein wenigstens einen Teil der Stirnwand (14, 14') bildendes Dielektrikum (19, 34) abgeschirmten Elektrode (18, 33), die mit einem Hochspannungsgenerator (17) verbindbar ist, wobei die Stirnwand (14, 14') wenigstens einen Abstandshalter (29, 29') aufweist, mit dem beim Anliegen des wenigstens einen Abstandshalters (29, 29') an der zu behandelnden Oberfläche wenigstens ein Gasraum gebildet wird, in dem sich für die Behandlung das dielektrisch behinderte Plasma ausbildet, ermöglicht die gleichzeitige Behandlung mit dem dielektrisch behinderten Plasma und dosierte Zuführung eines Behandlungsmittels dadurch, dass auf der von der zu behandelnden Oberfläche abgewandten Seite der Stirnwand (14, 14') eine mit einem Behandlungsmittel füllbare Vorratskammer (25, 25') angeordnet ist, dass die Stirnwand (14, 14') Durchgangsöffnungen (28, 28') aufweist und dass die Vorratskammer (25, 25') in ihrem Volumen so verkleinerbar ist, dass bei der Verkleinerung des Volumens Behandlungsmittel durch die Durchgangsöffnungen (28, 28') in den Bereich der zu behandelnden Oberfläche gelangt.A treatment device for a surface to be treated with a dielectrically impeded plasma, comprising a housing (1) having an end wall (14, 14 ') with a surface to be treated through at least a part of the end wall (14, 14') forming dielectric (19, 34) shielded electrode (18, 33) which is connectable to a high voltage generator (17), wherein the end wall (14, 14 ') at least one spacer (29, 29'), with the case of the at least one spacer (29, 29 ') is formed on the surface to be treated at least one gas space in which forms for the treatment, the dielectrically impeded plasma, the simultaneous treatment with the dielectrically impeded plasma and metered supply of a treatment agent characterized in that the s
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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