MILLER, TIFFANY, E.,STOREY, DANIEL, M.,KITCHELL, BARBARA, S.
申请号：
EP08871004
公开号：
EP2257971A4
申请日:
2008.12.18
申请国别(地区):
EP
年份:
2012
代理人:
摘要：
A modified atomic plasma deposition (APD) procedure is used to produce amorphous, nonconformal thin metal film coatings on a variety of substrates. The films are porous, mesh- like lattices with imperfections such as pinholes and pores, which are useful as scaffolds for cell attachment, controlled release of bioactive agents and protective coatings.Linvention concerne lutilisation dun procédé modifié de dépôt atomique par plasma (APD) pour produire sur différents substrats des revêtements amorphes en film métallique mince qui ne suivent pas la surface du substrat. Les films sont des treillis poreux de type en filet qui présentent des imperfections telles que des trous et des pores et qui peuvent être utilisés comme supports de fixation de cellules, pour la libération contrôlée dagents bioactifs et comme revêtements protecteurs.
