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荷電粒子ビーム照射システム及び照射計画システム
专利权人:
HITACHI LTD
发明人:
FUJII YUSUKE,藤井 祐介,FUJITAKA SHINICHIRO,藤高 伸一郎,MATSUDA KOJI,松田 浩二
申请号:
JP2013199132
公开号:
JP2015062605A
申请日:
2013.09.26
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem in which the irradiation time becomes long as the number of repainting increases in a conventional repainting irradiation, even though the repainting irradiation can make radiation dose distribution approximate to desired distribution as the number of irradiation increases.SOLUTION: A charged particle beam irradiation system includes an accelerator 4 which accelerates a charged particle beam, an irradiation device 21 which has scanning electromagnet devices 23, 24 for changing the irradiation position at the irradiation object by deflecting the charged particle beam emitted from the accelerator 4, and a control device 7 which controls the scanning electromagnet devices 23, 24 so as to divide the irradiation position at a certain depth of the irradiation object into a plurality of sets and irradiate each of the divided sets with the charged particle beam.COPYRIGHT: (C)2015,JPO&INPIT【課題】リペイント照射は、照射する回数を増やすほど線量分布を所望の分布に近づけることができる。しかし、従来のリペイント照射では、リペイント回数を増加させると照射時間が長くなるという課題がある。【解決手段】本発明は、荷電粒子ビームを加速する加速器4と、加速器4から出射された荷電粒子ビームを偏向して照射対象での照射位置を変更する走査電磁石装置23,24を有する照射装置21と、照射対象のある深さでの照射位置を複数の集合に分割し、分割された集合毎に荷電粒子ビームを照射するように走査電磁石装置23,24を制御する制御装置7を備えることで、上記課題を解決する。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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