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ヒ素除去剤及びヒ素除去方法
专利权人:
FUJI SILYSIA CHEMICAL LTD
发明人:
OBARA HIROKI,小原 裕輝,OGAWA MITSUTERU,小川 光輝,WATANABE NOBUKI,渡辺 伸樹
申请号:
JP2014043823
公开号:
JP2015167900A
申请日:
2014.03.06
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an arsenic removing agent and an arsenic removing method that have high effect of removing arsenic.SOLUTION: An arsenic removing agent contains a silica gel having an average pore diameter of 10-1,000 nm and an iron ion carried by the silica gel. Preferably, the amount of the carried iron ion per unit area is 0.1-1/nm2. The arsenic removing agent is used, for example, for removing arsenic contained in foodstuffs. The foodstuffs include, for example, one or more kinds selected from the group consisting of seafood, algae, seaweed, and extracts thereof. An arsenic removing method is characterized by bringing the arsenic removing agent into contact with object substances containing arsenic.COPYRIGHT: (C)2015,JPO&INPIT【課題】ヒ素を除去する効果が高いヒ素除去剤及びヒ素除去方法を提供することを目的とする。【解決手段】平均細孔径が10~1000nmであるシリカゲルと、前記シリカゲルに担持された鉄イオンと、を含むことを特徴とするヒ素除去剤。前記鉄イオンの単位面積当りの担持量は、0.1~1個/nm2であることが好ましい。ヒ素除去剤の用途は、例えば、食品に含まれるヒ素の除去とすることができる。前記食品としては、例えば、魚介類、藻類、海藻類、及びそれらの抽出液から成る群から選ばれる1種以上が挙げられる。本発明のヒ素除去方法は、上述したヒ素除去剤と、ヒ素を含む被処理物とを接触させることを特徴とする。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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