您的位置：
首页
>
农业专利
>
详情页
マイクロ空室の内壁面処理方法
- 专利权人:
- 国立大学法人東北大学;ステラケミファ株式会社
- 发明人:
- 酒井 健,吉田 達郎,平塚 亮輔,石川 俊,大見 忠弘,長谷部 類,高野 順,菊山 裕久,山本 雅士
- 申请号：
- JP20130544915
- 公开号：
- JPWO2014170928(A1)
- 申请日:
- 2013.04.18
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 被処理基体に設けたホールが譬え細く深いホールであっても、エッチングや洗浄を確実に行うことが出来るホール内壁面処理方法を提供する。処理液（１０６）が付与される表面と該表面に開口（１１０）を有するマイクロ空室（１０４）を内部に有し、マイクロ空室（１０４）のアスペクト比（ｌ/r）が５以上かまたはアスペクト比が５未満でかつＶ/Ｓ(Ｖ: マイクロ空室の容積、Ｓ：開口の面積)が３以上である基体（１００）が設置さている減圧可能な処理空間を減圧し、次いで、該減圧されている処理空間に処理液（１０６）を導入してマイクロ空室（１０４）の内壁面を処理する。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
