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一种颅内可降解支架及其制备/使用方法
- 专利权人:
- 南京浩衍鼎业科技技术有限公司
- 发明人:
- 陈鹤,牛朗,胡雪,赵古田,张伶
- 申请号：
- CN202011353101.9
- 公开号：
- CN112315632A
- 申请日:
- 2020.11.27
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2021
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种颅内可降解支架及其制备/使用方法。所述可降解支架应用于颅内血管，是由高分子量可降解聚合物、可降解磁性纳米粒子和低分子量可降解聚合物形成的多层复合材料制成的，降解周期可控。其中，支架材料含有可降解磁性纳米粒子，开启外部的交变磁场，使得可降解磁性纳米粒子产生热效应，从而在内部对支架进行升温，加快支架降解速率和可降解磁性纳米粒子自降解。相对于现有技术，本发明创造所述的颅内可降解支架的降解周期可控，升温方式具有时间、温度可控、对周围环境损伤小的特点。将内皮化后，支架的非必要降解周期从24‑36个月缩短到12‑18个月，能够减少内膜增生并将更加有效地预防和减少再狭窄的发生。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
