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粒子ビームまたは光子ビームによる直接描画時のショット計数を低減させる方法
- 专利权人:
- アセルタ ナノグラフィクス
- 发明人:
- リュック・マルタン,トマ・カグリオ,マチュー・ミルカント,クライド・ブラウニング,ザーダール・マナクリ
- 申请号：
- JP20160197882
- 公开号：
- JP2017076786(A)
- 申请日:
- 2016.10.06
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】粒子ビームまたは光子ビームによる直接描画時のショット計数を低減させる方法を提供する。【解決手段】基本形状に分解された図形分割化されたパターン２１０を基板上に転写するための方法であって、除去可能な基本形状と呼ばれる、図形分割化されたパターンの少なくとも１つの基本形状２０００であって、除去により転写されたパターンの修正が設定許容範囲内に導かれる基本形状２０００を識別するステップと、図形分割化されたパターンから前記除去可能な一つの形状または複数の形状を除去して、修正後の図形分割化されたパターン２２０を得るステップと、成形粒子ビームまたは成形光子ビームの複数のショットであって、それぞれが前記修正後の図形分割化されたパターンの基本形状に対応している複数のショットに基板を露光さ
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
