Photoresist (21) is attached to the pattern of vertical columns having the dimensions of the apertures or pores of the aperture plate to be produced. This mask pattern provides openings defining the aerosol particle size and has a maximum of 2500 holes per mm2. Metal (22) is electrodeposited in the space around the column (21). A much larger (larger width and height) column second photoresist mask (25) is further deposited, including several first column (21) areas. The diameter of the holes in the second plating layer is selected according to the desired flow rate. [Selection] Figure 8製造される開口板の孔または細孔の寸法を有する垂直カラムのパターンに、フォトレジスト（２１）が付着される。このマスクパターンは、エアロゾル粒径を画定する開口をもたらし、１ｍｍ２当たり最大２５００個の孔を有する。カラム（２１）の周りの空間に金属（２２）が電着している。いくつかの第１のカラム（２１）の領域を含む、はるかに大きい（幅および高さが大きい）カラムの第２のフォトレジストマスク（２５）がさらに付着される。第２のめっき層の孔の直径は、所望の流量に従って選択される。【選択図】図８
