PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heavy ion beam generation technique to stably generate a high-purity heavy ion beam with little inclusion of impurities.SOLUTION: A heavy ion beam generation device 10 includes: an ion source 11 for generating ions； a linear accelerator 12 for generating a heavy ion beam, linearly accelerating the ions； deflecting magnets 13 (13a,13b) for deflecting an orbits 15 (15a,15b) of the heavy ion beam； a film 16 provided in the linear accelerator 12 or between the linear accelerator 12 and the deflecting magnet 13a for giving an energy loss when the heavy ion beam is passing through.SELECTED DRAWING: Figure 1COPYRIGHT: (C)2018,JPO&INPIT【課題】不純物の混入が少ない高純度の重イオンビームを安定的に生成する重イオンビーム生成技術を提供する。【解決手段】重イオンビーム生成装置１０は、イオンを発生させるイオン源１１と、イオンを線形加速して重イオンビームを生成する線形加速器１２と、重イオンビームの軌道１５（１５ａ，１５ｂ）を曲げる偏向磁石１３（１３ａ，１３ｂ）と、線形加速器１２の内部又は線形加速器１２と偏向磁石１３ａとの間に設けられ重イオンビームが通過する際にエネルギー損失を付与する膜１６と、を備える。【選択図】 図１
