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用于体的表面处理的电极装置和等离子处理设备
- 专利权人:
- 希尔德斯海姆霍尔茨明登哥廷根应用科学和艺术大学
- 发明人:
- W·维奥尔,S·维内克,L·坦恩博施,R·克勒
- 申请号：
- CN201680044416.0
- 公开号：
- CN107926106A
- 申请日:
- 2016.06.22
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 一种用于体(11)以物理等离子体的表面处理的电极装置(18),所述电极装置具有用于连接到产生交流高压的交流高压源的输出端(6)的高压连接端(19),多个线形电极体(2)和邻接所述电极体(2)的处理空间(9)。所述电极体(2)如此共同连接到高压连接端(19),使得在所有的电极体(2)处存在相同的交流高压。所述电极体(2)分别包括一个弧形区域(10),在所述区域中所述相应的线形电极体(2)改变所述电极体的方向至少90°;并且所述电极体(2)以介质(4)包罩和/或分别电容式地在所述高压连接端(19)处耦合。所述处理空间(9)至少部分地处于所述电极体(2)的弧形区域(10)之间,在所述处理空间中引入用于以物理等离子体表面处理的所述体(11)。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
